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用于研发的高密度等离子刻蚀系统NE-550EX
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用于研发的高密度等离子刻蚀系统NE-550EX

配备低压、低电子温度和高密度等离子源; 支持从离子蚀刻到自由基蚀刻的各种过程控制; 等离子体的密度和均匀性可以通过优化磁场来控制; 配置简单,便于维护。


用于研发的高密度等离子刻蚀系统NE-550EX

      描述:


      NE550EX是一种多功能高密度等离子刻蚀系统,特别适用于大学和政府机构作为测试设备。


      特性:


      配备低压、低电子温度和高密度等离子源。


      支持从离子蚀刻到自由基蚀刻的各种过程控制。


      等离子体的密度和均匀性可以通过优化磁场来控制。


      配置简单,便于维护。


      应用:


      超高频器件,光学器件(LED,LD)


      新一代非易失性存储器


      生物芯片和微流体装置


      光子晶体


      传感器,MEMS(微机电系统)


      产品规格:


项目

规格

系统配置

具有负载锁功能的研发/原型系统

基材尺寸

高达150毫米

操作压力(Pa)

0.07至6.7

基底或基底到基底表面的均匀性

最大±3%。

基材温度控制

静电吸盘













 



 


用于研发的高密度等离子刻蚀系统NE-550EX

      描述:


      NE550EX是一种多功能高密度等离子刻蚀系统,特别适用于大学和政府机构作为测试设备。


      特性:


      配备低压、低电子温度和高密度等离子源。


      支持从离子蚀刻到自由基蚀刻的各种过程控制。


      等离子体的密度和均匀性可以通过优化磁场来控制。


      配置简单,便于维护。


      应用:


      超高频器件,光学器件(LED,LD)


      新一代非易失性存储器


      生物芯片和微流体装置


      光子晶体


      传感器,MEMS(微机电系统)


      产品规格:


项目

规格

系统配置

具有负载锁功能的研发/原型系统

基材尺寸

高达150毫米

操作压力(Pa)

0.07至6.7

基底或基底到基底表面的均匀性

最大±3%。

基材温度控制

静电吸盘